VEStudio虚拟仿真创作平台特性：
【全新引擎升级】
支持DX,更好的兼容性。
支持WinXP，Win7操作系统。
支持32位、64位的MAX插件。
子属性编辑。
自动dds纹理优化工具。
PS联动编辑纹理实时修改。
【次世代画面】
实时光影、雾效、凹凸、offsetting、反射贴图、BLOOM、SSAO、DOF、GodRays特效、水面、镜面、环境反射渲染。
【组件式场景搭建】
标准模型、库模型、粒子模板、材质模板。
【材质系统】
次世代、水面、混合（支持MAX合成材质导出为VES的混合材质。）、swf材质（场景中视频如电视画面、等离子广告）、玻璃、天空、卡通等。
【粒子系统】
可视化编辑。
【物理碰撞】
碰撞导航、角色漫游导航、人工智能。
【全新GUI界面与脚本交互】
支持Flash格式GUI界面、自定义菜单交互、鼠标交互、界面自动缩放。
【主模块】
人工智能（Artificial Intelligence）、交互物体、体积云、海洋模块、海量场景。
【场景发布】
数据安全：
场景加密输出、版权声明保护 。
网页发布：
自动更新主程序、场景缓存模式、智能化便捷的发布模式。
【教程指南】
软件附带全新chm帮助文档、平台自带多个可编辑案例场景。
VEStudio2.2正式版：
继续修改了Alpha版以后已知的Bug。
修改提升了阴影的效率。
增加了PS特效。
增加了顶点/纹理动画及相关脚本函数。
增加了高光贴图支持。
增加了SketchUp的模型导出插件。
增加了例子[动画大观]。
支持自定义加载界面。
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